淺談AMC在潔凈室中的重要性

: AMC是危害生產(Produce)工藝并導致成品率降低（reduce)的分子態化學物質,從AMC定義、分類、來源和去除方法進行探討和分析(Analyse)。層流手術室凈化采用高效低毒消毒劑，以及合理使用，是保障一般手術室無菌環境的有力措施。根據不斷討論與反復斟酌，修訂后《綜合醫院建筑設計規范》中，關于一般手術室的條文最終確定為：“一般手術室應采用末端過濾器不低于高中效過濾器的空調系統或全新風通風系統。
關鍵（解釋:比喻事物的重要組成部分)詞: 半導體;AMC;污染物;化學過濾器(作用:過濾雜質等) 。
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半導體(semiconductor)生產制程包含精密(precise)的微機電和積體電路,對于生產環境之潔?Q度的要求特別嚴格,因此整個制造過程都在嚴格控制的環境條件下,也就是一般熟悉的潔?Q室。
在潔凈室技術中,污染不僅包括嚴格意義上的灰塵的微粒,還包括任何有干擾作用的固體、液體、氣體、熱、電磁。所以需要小心控制污染控制的生產(Produce)有關的環境,這可能會有負面影響的過程和產品的質量。
大多數潔凈室會避免的懸浮微粒污染,因為微粒為大顆粒,通過HEPA/ULPA過濾器(作用:過濾雜質等)足以控制（control),但是懸浮分子污染,為小顆粒,傳統上,HEPA和ULPA是半導體(semiconductor)工藝中賴以控制微粒污染的技術,但隨著尺寸由0.25μm快速演進到0.13μm快甚至納米(2.5m/s)化學濾網。潔凈手術室裝修公司層流手術室的空氣壓力根據其不同區域（如手術間、無菌準備間、刷手間、麻醉間和周圍干凈區域等）潔凈度不同要求而不同。不同級別的層流手術室其空氣潔凈度標準不同。
2)設備進氣口之高效過濾風機(Draught Fan)組單元(FFU)上游處,設置低風速型,(VV>1.2m/s)。
3 結語
當前半導體(semiconductor)制程技術發展迅猛,芯片(又稱微電路)線寬已經進入納米級,因此半導體潔凈室內AMC的控制更顯重要。層流手術室凈化采用高效低毒消毒劑，以及合理使用，是保障一般手術室無菌環境的有力措施。根據不斷討論與反復斟酌，修訂后《綜合醫院建筑設計規范》中，關于一般手術室的條文最終確定為：“一般手術室應采用末端過濾器不低于高中效過濾器的空調系統或全新風通風系統。在AMC的控制中的首要步驟是通過監測（Food Monitor)分析,識別污染的來源和通過調整材料和工藝流程以去除污染物。同時在新風、循環風以及機臺側考慮（consider)安裝合適的化學過濾器(作用:過濾雜質等),來保護生產環境。第三,對于潔凈室內某區域溫濕度異常波動,需要巧妙運用在線檢測的數據（data),去系統分析任何一次超出控制的異常情況,找到引起溫濕度異常波動的真實原因,從而找到有效的對策以避免問題的再次發生。最后對整個半導體代工業的潔凈室技術的現狀和新技術進行總結和比較,并展望本行業將來的發展趨勢（trend)。