淺談AMC在潔凈室中的重要性
www.ch-group-slyy.net 2019-02-27 22:18:30 閱讀
摘要: AMC是危害生產工藝并導致成品率降低的分子態化學物質,從AMC定義、分類、來源和去除方法進行探討和分析。 關鍵詞: 半導體;AMC;污染物;化學過濾器 。
0 引言
半導體生產制程包含精密的微機電和積體電路,對于生產環境之潔?Q度的要求特別嚴格,因此整個制造過程都在嚴格控制的環境條件下,也就是一般熟悉的潔?Q室。在潔凈室技術中,污染不僅包括嚴格意義上的灰塵的微粒,還包括任何有干擾作用的固體、液體、氣體、熱、電磁。所以需要小心控制污染控制的生產有關的環境,這可能會有負面影響的過程和產品的質量。
大多數潔凈室會避免的懸浮微粒污染,因為微粒為大顆粒,通過HEPA/ULPA過濾器足以控制,但是懸浮分子污染,為小顆粒,傳統上,HEPA和ULPA是半導體工藝中賴以控制微粒污染的技術,但隨著尺寸由0.25μm快速演進到0.13μm快甚至納米(2.5m/s)化學濾網。
2)設備進氣口之高效過濾風機組單元(FFU)上游處,設置低風速型,(VV>1.2m/s)。
3 結語
當前半導體制程技術發展迅猛,芯片線寬已經進入納米級,因此半導體潔凈室內AMC的控制更顯重要。在AMC的控制中的首要步驟是通過監測分析,識別污染的來源和通過調整材料和工藝流程以去除污染物。同時在新風、循環風以及機臺側考慮安裝合適的化學過濾器,來保護生產環境。第三,對于潔凈室內某區域溫濕度異常波動,需要巧妙運用在線檢測的數據,去系統分析任何一次超出控制的異常情況,找到引起溫濕度異常波動的真實原因,從而找到有效的對策以避免問題的再次發生。最后對整個半導體代工業的潔凈室技術的現狀和新技術進行總結和比較,并展望本行業將來的發展趨勢。
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