為什么潔凈室需要保持一定的溫度和濕度？

無塵車間溫濕度主要根據加工工藝要求確定.. 在滿足加工工藝的條件下，應將人的舒適性作為首選。凈化實驗室均已通過醫藥潔凈檢測中心檢測，為萬級潔凈實驗室。主要開展項目為：CIK細胞免疫治療、DC－CIK免疫治療、超級免疫粒細胞治療等。空氣調節系統必須可靠運行，采用先進技術，合理利用和節約能源與資源，保證環境的質量和安全，為實驗人員提供所需要的溫度和濕度，保障生物實驗在安全的條件下進行，以確保實驗結果得準確性。實驗室凈化參與多個醫療重點課題的實驗和臨床研究，同時參加國際會議和國內重點峰會論壇，為當今的細胞免疫治療和癌癥/肝病患者奉獻了自己的一份力量。潔凈實驗必須控制實驗室的潔凈度，對新風進行過濾，使實驗室達到一定的凈化要求。其中排風系統是重點，對于保證實驗室相對負壓環境和有效過濾室內污染排風起著重要的作用。潔凈實驗室確保手術臺潔凈度達標，一般多采用垂直層流式效果較好　層流手術室是一個"正壓"環境，其空氣壓力根據其不同區域（如手術間、無菌準備間、刷手間、麻醉間和周圍干凈區域等）潔凈度不同要求而不同。 隨著空氣潔凈度要求的提高，技術對溫度和濕度的要求越來越高，我們必須達到一定的溫度和濕度水平，我們必須承擔資金和運營成本。

凈化工程的具體過程有不同的溫度要求，但作為一般原則，隨著加工精度越來越精細，對溫度波動范圍的要求越來越小。

例如，在大規模集成電路生產的平版曝光過程中，玻璃和硅片作為掩模材料的熱膨脹系數的差別越來越小。直徑為100微米的硅片在溫度升高1度時會引起0.24微米的線性膨脹。因此，有必要保持恒定的溫度？0.1度，濕度值一般較低，因為產品出汗后會受到污染，特別是在半導體車間，怕鈉，不應超過25度。

濕度過大會造成更多的問題。當相對濕度大于55%時，冷卻管壁會凝結，如果發生在精密裝置或電路中，會引起各種事故。相對濕度為50%時，很容易生銹。此外，當濕度過高時，附著在硅片表面的灰塵會被空氣中的水分子化學吸附在表面。相對濕度越高，去除粘附的難度越大，但當相對濕度小于30%時，由于靜電的作用，顆粒也很容易吸附在表面，大量的半導體器件容易發生擊穿。硅片生產的最佳溫度范圍為35≤45%。

此外，相對濕度有許多因素可能會降低潔凈室的整體性能，包括：細菌生長，房間在室溫下感覺舒適的范圍內的靜電荷，金屬腐蝕，水蒸氣凝結，降解光刻等。

因此，濕度控制是無塵車間生產的重要條件。相對濕度是無塵車間和潔凈室運行中常見的環境控制條件。無塵車間典型相對濕度目標值控制在30-50%范圍內，允許誤差在較窄的范圍內。1%。