我國凈化工程需求范圍及應用探討

潔凈室屬于凈化工程范圍，設備和設施用于某些特定的空間：溫度，濕度，風量，壓差，清潔度，沉淀細菌，漂浮細菌等項目，以調整和控制項目符合某些標準。凈化實驗室均已通過醫藥潔凈檢測中心檢測，為萬級潔凈實驗室。主要開展項目為：CIK細胞免疫治療、DC－CIK免疫治療、超級免疫粒細胞治療等。空氣調節系統必須可靠運行，采用先進技術，合理利用和節約能源與資源，保證環境的質量和安全，為實驗人員提供所需要的溫度和濕度，保障生物實驗在安全的條件下進行，以確保實驗結果得準確性。實驗室凈化參與多個醫療重點課題的實驗和臨床研究，同時參加國際會議和國內重點峰會論壇，為當今的細胞免疫治療和癌癥/肝病患者奉獻了自己的一份力量。潔凈實驗必須控制實驗室的潔凈度，對新風進行過濾，使實驗室達到一定的凈化要求。其中排風系統是重點，對于保證實驗室相對負壓環境和有效過濾室內污染排風起著重要的作用。潔凈實驗室確保手術臺潔凈度達標，一般多采用垂直層流式效果較好　層流手術室是一個"正壓"環境，其空氣壓力根據其不同區域（如手術間、無菌準備間、刷手間、麻醉間和周圍干凈區域等）潔凈度不同要求而不同。如果房東的潔凈室有前者的要求，那就是凈化項目。

凈化工程在規定的空間范圍內，將空氣中的微粒子、有害空氣、細菌等污染物排除，并將室內溫度、潔凈度、壓力、氣流速度與氣流分布、噪音振動及照明、靜電控制在某一需求范圍內的工程學科。凈化工程所特別設計的房間，不論外在空氣條件如何變化，室內均具有維持原先所設定要求之潔凈度、溫濕度及壓力等性能。這比用紊流來描述亂流潔凈室更確切、更全面。

后對溫度，凈化工程的具體工藝要求但作為一般原理，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小..

例如，在用于大規模集成電路生產的光刻曝光工藝中，要求玻璃和作為掩模材料的硅晶片之間的熱膨脹系數的差異越來越小。直徑為100微米，溫度上升1度的硅晶片導致0.24um的線性膨脹，因此它必須具有±0.1度的恒定溫度，并且濕度值通常較低，因為在人們出汗之后，產品將被污染和凈化。該項目特別適用于害怕鈉的半導體車間。這個車間的溫度不應超過25度。

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